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產品與技術
PRODUCTS
高真空多靶磁控濺射鍍膜設備
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1、產品描述
通過高真空多靶磁控濺射技術制備硬質薄膜、耐腐蝕摩擦薄膜、超導薄膜、磁性薄膜、光學薄膜、裝飾薄膜、以及各種具有特殊功能的材料表面改性薄膜；
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2、設備特點及優點
通過陽極層離子源提高離化率，實現高效率和高品質薄膜輔助沉積；
通過脈沖偏壓反濺射/刻蝕清洗工件表面及偏壓電場輔助沉積。
配備濺射靶 4套，陽極層離子源1套
電極感應惰性氣體霧化制粉設備（QEIGA）
在高真空環境下充入高純惰性氣體，將預制合金棒通過爐外升降旋轉機構送入爐內錐型感應線圈內感應加熱熔化，束流熔滴直接流入特制的霧化器噴嘴系統，利用高壓惰性氣體進行霧化制粉的成套設備。具有無坩堝材料污染，粉體球型度高等優點。采用電極感應熔煉和惰性氣體霧化技術可以制備超純金屬粉末。
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