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高真空多靶磁控濺射鍍膜設備

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1、產品描述

通過高真空多靶磁控濺射技術制備硬質薄膜、耐腐蝕摩擦薄膜、超導薄膜、磁性薄膜、光學薄膜、裝飾薄膜、以及各種具有特殊功能的材料表面改性薄膜；

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2、設備特點及優點

通過陽極層離子源提高離化率，實現高效率和高品質薄膜輔助沉積；

通過脈沖偏壓反濺射/刻蝕清洗工件表面及偏壓電場輔助沉積。

配備濺射靶 4套，陽極層離子源1套

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